原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种可以将物质以单原子模形式一层一层镀在基层表面的方法,是一种前沿的纳米结构制造与表面修饰技术。该技术依据自下而上的纳米结构组装思想,通过周期性控制气态反应物前驱体与基底材料表面饱和的化学反应实现原子级精度的可控薄膜生长。借助ALD技术可以在各种材料表面直接引入所需的物理或化学性质,从而在很大程度上改造材料性能。
该技术依据自下而上的纳米结构组装思想,通过周期性控制气态反应物前驱体与基底材料表面饱和的化学反应实现原子级精度的可控薄膜生长。借助ALD技术可以在各种材料表面直接引入所需的物理或化学性质,从而在很大程度上改造材料性能。
高性能、低成本、易于维护和升级改造
我所自主研发设计的ALD反应器及反应实施方案,实现了面向特殊工程化的应用,同时具有高性能、低成本、易于维护和升级改造的特点,为新材料、新器件、新能源开发等领域提供了纳米级表面精确加工制造工具
我所在该领域的研究填补了国内空白,达到了国内领先、国际先进的水平,市场潜力较大。
技术成熟,可生产设备和提供服务。
设备定制、技术服务
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